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佳能推出 FPD 曝光设备 MPAsp-E1003H

5月28日消息,佳能中国官方正式公布,全新FPD曝光设备MPAsp-E1003H即将问世,预计于2024年6月上旬正式推向市场。这款新品设备引人注目的一大亮点在于其支持使用第6代玻璃基板,这一创新技术的应用将进一步提升设备的性能与效率。

佳能推出 FPD 曝光设备 MPAsp-E1003H

▲ MPAsp-E1003H

注:FPD 即平板显示器(Flat panel display),大家常见的产品一般可分为 LCD、OLED、LED、PDP、ELD、FED、投影显示等不同类型。

佳能表示,这款产品采用了投影光学系统,可实现 1.5μm(L/S)的高分辨率,且一次曝光幅度扩大约 1.2 倍,使生产能力将进一步提升。

据介绍,该投影光学系统曾用于“MPAsp-H1003H”,可用于生产使用第 8 代玻璃基板一次性曝光、用于大型电视等的 65 英寸面板。

在一块玻璃基板上,如果生产智能手机面板等产品,此前需要 6shot 曝光,而新产品仅需 4shot 曝光,生产性能大幅提升。此外,在生产车载横向大型特殊显示器时,也可以做到无接缝 2shot 曝光。且,玻璃基板搭载台的驱动速度提升约 60%,tact time 提升约 14%,有效提升了量产效率。

佳能推出 FPD 曝光设备 MPAsp-E1003H

佳能表示,新产品除了采用和支持第 6 代玻璃基板的“MPAsp-E813H”一样的每块面板多点同时测量的对位方式(既保证了生产效率也实现了高精度曝光),还搭载了新开发的非线性补正 REI(Real-Time Equalizing distorted Image)模块,从而使其即使曝光幅度扩大也能实现 ±0.30μm 高套刻精度。

此外,新产品沿用了曾经搭载在“MPAsp-H1003H”上实现了超分辨率技术的照明模式切换机构,可根据需要曝光图案的种类进行照明模式切换,从而适配各类制造工序的曝光。

这款新产品在形成圆弧光的机构中,配备曝光狭缝自动调整机构(SIC:Slit Illuminance Control)。通过自动控制光线通过的狭缝宽度,可以改变曝光光线的强度分布,从而实现稳定的曝光线宽。

佳能推出 FPD 曝光设备 MPAsp-E1003H

同时,新产品还采用了可配合曝光布局自由选择玻璃基板纵横方向的 universe chuck,首次实现可应对车载显示器多样化布局需求。佳能表示,MPAsp-E1003H 通过强化上述制造工序的工艺应对能力,制造质量更加稳定。

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