7月1日有媒体报道称，日本东京电子（TEL）最近宣布了一项投资计划，将在2025至2029财年期间投入高达1.5万亿日元（折合人民币约为679.83亿元），并预计在此期间招聘一万名新员工。这项投资额度相比上一个五年周期增长了1.8倍，公司的目标是跻身全球最大半导体设备制造商的行列。
东京电子目前是世界第四大半导体设备制造商，仅次于荷兰的阿斯麦（ASML）、美国的应用材料公司和泛林集团。
该公司在多个关键设备领域占据市场领导地位，包括涂布显影、气体化学蚀刻、扩散炉和批量沉积设备，同时在清洗、等离子蚀刻、金属薄膜沉积、探针台等设备上排名第二。
随着生成式AI服务器的快速发展，对逻辑和存储芯片的需求不断增长，东京电子的AI应用相关设备营收已占到公司总销售额的三成。
此外，全球数字化转型和半导体制程微缩的持续推进，为东京电子提供了扩大营运规模以满足客户需求的机遇。
东京电子宫城子公司，作为全球最大的等离子蚀刻设备制造基地，不仅为三星电子3nm和台积电2nm工艺提供关键设备，还在积极开发1nm级别以下的先进制造设备。
作为全球半导体设备五强中唯一的日本企业，东京电子的产品线覆盖了半导体制造流程的所有工序，为全球芯片制造提供了一站式的解决方案。
